1H,1H,2H,2H-เพอร์ฟลูออโรเดซิลไตรเมทอกซีไซเลน/CAS:83048-65-1
คำอธิบายโดยย่อ:
ชื่อผลิตภัณฑ์: 1H,1H,2H,2H-เพอร์ฟลูออโรเดซิลไตรเมทอกซีไซเลน
CAS:83048-65-1
MF:C13H13F17O3Si
MW:568.3
โครงสร้าง:
คุณสมบัติทางเคมี:
1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyltrimethoxysilane เป็นโมโนเมอร์ที่มีซิลิคอนเป็นองค์ประกอบหลัก เป็นของเหลวใสไม่มีสี จัดเป็นอัลคิลไซเลนที่มีฟลูออรีน มีคุณสมบัติดัชนีสะท้อนแสงต่ำ ป้องกันการเกาะติด และทำปฏิกิริยากับแก้ว เซรามิก เป็นต้น Heptadecafluorodecyltrimethoxysilane สามารถใช้เป็นสารป้องกันรอยนิ้วมือและวัสดุเคลือบสำหรับผลิตภัณฑ์แก้ว เช่น หน้าจอโทรศัพท์มือถือและเลนส์กล้องรุ่นใหม่ๆ
ข้อกำหนด
| รายการ | ข้อกำหนด |
| จุดเดือด | 247 องศาเซลเซียส |
| ความหนาแน่น | 1.54 กรัม/ซม³ |
| ดัชนีหักเห | 1.33125 |
| Fp | >65°C |
| อุณหภูมิในการจัดเก็บ | เก็บในที่มืด ปิดผนึก และแห้ง ที่อุณหภูมิห้อง |
| รูปร่าง | ของเหลวใส |
| ความถ่วงจำเพาะ | 1.54 |
| สี | ไม่มีสีถึงเกือบไม่มีสี |
การใช้งาน
ไตรเมทอกซี(2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-ออกตาเดคาฟลูออโรเดซิล)ไซเลน (CAS# 83048-65-1) ถูกนำมาใช้ในการเตรียมพื้นผิวไนลอนที่ทนต่อการขัดถูและมีคุณสมบัติป้องกันการเปียกน้ำสูงเป็นพิเศษ นอกจากนี้ ไตรเมทอกซี(2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-ออกตาเดคาฟลูออโรเดซิล)ไซเลนยังถูกใช้เป็นสารเติมแต่งเพื่อเพิ่มคุณสมบัติไม่ชอบน้ำของพื้นผิวโครงสร้างนาโนทิวบ์คาร์บอน
1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyltrimethoxysilane เป็นวัตถุดิบในด้านการเคลือบป้องกันแสงสะท้อน การเคลือบปลดปล่อย และการเคลือบป้องกันคราบสกปรก
สารเคลือบสำหรับผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์
ใช้สำหรับทำความสะอาดตัวเองของกระจกและผลิตภัณฑ์อื่นๆ ดัชนีหักเหต่ำของฟลูออโรซิเลนสามารถป้องกันการสะท้อนของแสงจากพื้นผิวได้
การเคลือบพื้นผิวแก้วหรือเส้นใยให้มีคุณสมบัติกันน้ำและกันน้ำมัน
สำหรับการเตรียมพื้นผิวไนลอนที่ทนต่อการสึกหรอและทนต่อความชื้นสูงเป็นพิเศษ
สารนี้ใช้เป็นสารเติมแต่งเพื่อเพิ่มคุณสมบัติไม่ชอบน้ำของพื้นผิวโครงสร้างนาโนทิวบ์คาร์บอน
บรรจุภัณฑ์และการจัดส่ง
25 กก./ถัง หรือตามความต้องการของลูกค้า
จัดเป็นสินค้าทั่วไปและสามารถขนส่งทางทะเลและทางอากาศได้
การเก็บรักษาและการจัดเก็บ
อายุการเก็บรักษา: 24 เดือนนับจากวันที่ผลิต ในบรรจุภัณฑ์เดิมที่ยังไม่เปิด เก็บในที่แห้งและเย็น หลีกเลี่ยงแสงแดดโดยตรงและความชื้น
โกดังระบายอากาศ, การอบแห้งด้วยอุณหภูมิต่ำ, แยกจากสารออกซิไดซ์และกรด
